Materiaalitutkimus



Materiaalitutkimuksella tarkoitetaan laaja-alaista erilaisten materiaalien kuten metallien, muovien, keraamien, tekstiilien sekä orgaanisten aineiden tutkimusta. Orgaanisiksi aineiksi voidaan luokitella muun muassa puu ja paperi. Yllämainittujen materiaalien tutkimuksessa hyödynnetään monenlaisia analyysi- ja koeistuslaitteistoja, mutta kun materiaalin hienorakennetta halutaan tutkia visuaalisesti, niin elektronimikroskooppi (SEM, Scanning Electron Microscope) antaa parhaimman tuloksen, sillä elektronimikroskoopilla pystytään havaitsemaan materiaalin pienimmätkin yksityiskohdat jopa nanometrien kokoluokassa.

Materiaalien tutkimuksessa on tärkeää saada tietoa myös alkuainekoostumuksista, sillä monien materiaalien ominaisuudet, niin mekaaniset, kemialliset kuin fysikaalisetkin, vaativat hyvinkin tarkat alkuainepitoisuudet ja alkuainepitoisuuksien pienetkin muutokset voivat aiheuttaa pahimillaan materiaalien ennenaikaisen hajoamisen. Elektronimikroskooppeihin asennettavat alkuaineanalysaattorit, kuten energiadispersiivinen detektori (EDS, Energy Dispersive Spectrometer) tai aallonpituusdispersiivinen detektori (WDS, Wavelength Dispersive Spectrometry) mahdollistavat tarkat alkuainepitoisuus analyysit materiaalien pienimmiltäkin alueilta.

Me Finfocuksella tuomme maahan ja myymme Tescanin elektronimikroskooppeja sekä eri laitevalmistajien EDS-analysaattoreita. Mikäli näille laitteille on tarvetta, esimerkiksi materiaalitutkimuksessa, niin Finfocuksen asiantuntijat auttavat mielellään.

VEGA 4 Compact
Elektronimikroskooppi

  • Keskikokoinen kammio
  • High Vacuum laitteisto
  • Resoluutio: 3nm @ 30keV, 8nm @ 3keV

 

Tescan VEGA 4 Compact on täydellinen valinta jokapäiväiseen rutiinianalytiikkaan sekä kuvantamiseen, kun tarve on mikrometriluokan erotuskyvylle (saavutettavissa oleva resoluutio 3nm).

Lataa esite

VEGA 4 LM SEM
Elektronimikroskooppi

  • Keskikokoinen kammio
  • SingleVac (30Pa) mukana
  • Resoluutio: 3nm @ 30keV,  8nm @ 3keV


VEGA4 LM on myydyin VEGA-sarjan laitteista. Sen kammioon mahtuvat hyvin tyypillisimmät SEM näytteet. Laitteiston resoluutio soveltuu hyvin useimpien näytteiden rakenteen kuvantamiseen.

Lataa esite

VEGA 4 GM SEM
Elektronimikroskooppi

  • Erikoissuuri kammio
  • SingleVac (30Pa) mukana
  • Resoluutio: 3nm @ 30keV, 8nm @ 3keV

 

VEGA4 GM tarkoitettu erityisen suurille näytteille ja järjestelmille, joihin liitetään useita detektoreita (esim. EDS, WDS, EBSD, jne). Suuri kaamiokoko mahdollistaa myös suurempien ja painavampien näytteiden kuvantamisen. Kappale voi painaa jopa 8kg.

Lataa esite

MIRA 4 FEG-SEM
Elektronimikroskooppi

  • Analyyttinen kolumni
  • SingleVac vakiona/UniVac optio
  • Resoluutio:
    1,2nm@30keV (SE)

MIRA4 on suorituskykyinen SEM kaikkiin sovelluksiin.

Resoluutio:
1,2nm@30keV (SE), 3,5nm@30keV (in beam SE) ja 1,8nm@1keV (BDT:n kanssa)

SingleVac:
2,0nm@30keV (BSE) ja 1,5nm230keV (LVSTD)

Lataa esite

CLARA (UHR) FEG-SEM
Elektronimikroskooppi

  • BrightBeam™ UHR Kolumni
  • UniVac optiona
  • Resoluutio:
    0,8nm@30keV (STEM)


BrightBeam™ SEM kolumni ja uudet in-beam aksiaaliset detektorit. CLARA on korkean resoluution SEM kaikkiin sovelluksiin.

Resoluutio: 0,8nm@30keV (STEM), 0,9nm@15keV, 1,4nm@1keV

Lataa esite

MAGNA (UHR) FEG-SEM
Elektronimikroskooppi

  • Triglav™ UHR Kolumni
  • UniVac optiona
  • Resoluutio:
    0,5nm@30keV (STEM)

Triglav™ kolumni ja kehittyneet detektorit. MAGNA tarjoaa äärimmäistä suorituskykyä todella vaativaan SEM-kuvantamiseen. Paras suorituskyky ei-magneettisille näytteille.

Resoluutio: 0,5nm@30keV (STEM), 0,6nm@15keV, 1,2nm@1keV

Lataa esite

SOLARIS FIB-SEM
Elektronimikroskooppi

  • MAGNAan perustuva FIB
  • Gallium-lähde
  • FIBin resoluutio: 2.5nm@30kV


Ionilähteenä on yleisimmin käytetty Gallium-lähde. Gallium-ionisuihkulla saavutetaan loistava tarkkuus ja hyvä työstönopeus.

Lataa esite

SOLARIS X FIB-SEM
Elektronimikroskooppi

  • MAGNAan perustuva FIB
  • Xenon plasma -lähde
  • FIBin resoluutio:        <15nm@30kV (HR i-FIB+™), <25nm@30kV (i-FIB+™)

Gallium-ionisuihkuun verrattuna Xe-plasmalla saavutetaan huomattavasti suurempi työstönopeus, jolloin poikkileikkeiden tekeminen suuristakin kohteista onnistuu nopeasti. Työstövirta 1uA/2uA.

Lataa esite

AMBER X FIB-SEM
Elektronimikroskooppi

  • CLARAan perustuva FIB
  • Xenon plasma -lähde
  • FIBin resoluutio:           <15nm@30kV (HR i-FIB+™), <25nm@30kV (i-FIB+™)


Gallium-ionisuihkuun verrattuna Xe-plasmalla saavutetaan huomattavasti suurempi työstönopeus, jolloin poikkileikkeiden tekeminen suuristakin kohteista onnistuu nopeasti. Työstövirta 1uA/2uA.

Lataa esite

AMBER FIB-SEM
Elektronimikroskooppi

  • CLARAan perustuva FIB
  • Gallium lähde
  • FIBin resoluutio: 2.5nm@30kV



Ionilähteenä on yleisimmin käytetty Gallium-lähde. Gallium-ionisuihkulla saavutetaan loistava tarkkuus ja hyvä työstönopeus.

Lataa esite
Soita 010 328 9980 ja kysy lisää Pyydä demo tai jätä yhteydenottopyyntö