Puolijohdeteollisuus



Puolijohdeteollisuus on elektroniikkateollisuuden kulmakivi. Ilman puolijohdeteollisuudet uraa uurtavia saavutuksia elektroniikan kehitys ei olisi ollut mahdollista siinä mittakaavassa missä se nyt näyttäytyy. Laitteistojen koko on pienentynyt ja niiden teho on kasvanut samassa ellei jopa hurjemmassa suhteessa. Laitteistojen pienenemisen sekä tehon kasvun on mahdollistanut puolijohdeteollisuudessa valmistettavien komponenttien pienentyminen, mikä myös osaltaan mahdollistaa komponenttien määrän kasvun laitteessa.

Tänä päivänä puolijohdeteollisuudessa valmistettavien ja tutkittavien komponenttien rakenteita mitataan nanometriluokassa. Tällaisten komponenttien valmistus ja tutkimus vaatii pitkälle kehitettyjä työkaluja sekä mitta- että tutkimuslaitteistoja. Tämä tarkoittaa sitä, että tutkimuslaitteistolta vaaditaan äärimmäistä kykyä, kuten resoluutiota, havainnoida rakenteiden ja materiaalien ominaisuuksia.

Me Finfocuksella tuomme maahan ja myymme Tescanin elektronimikroskooppeja sekä eri laitevalmistajien EDS-analysaattoreita. Mikäli näille laitteille on tarvetta, esimerkiksi puolijohdeteollisuudessa, niin Finfocuksen asiantuntijat auttavat mielellään.

CLARA (UHR) FEG-SEM
Elektronimikroskooppi

  • BrightBeam™ UHR Kolumni
  • UniVac optiona
  • Resoluutio:
    0,8nm@30keV (STEM)


BrightBeam™ SEM kolumni ja uudet in-beam aksiaaliset detektorit. CLARA on korkean resoluution SEM kaikkiin sovelluksiin.

Resoluutio: 0,8nm@30keV (STEM), 0,9nm@15keV, 1,4nm@1keV

Lataa esite

MAGNA (UHR) FEG-SEM
Elektronimikroskooppi

  • Triglav™ UHR Kolumni
  • UniVac optiona
  • Resoluutio:
    0,5nm@30keV (STEM)

Triglav™ kolumni ja kehittyneet detektorit. MAGNA tarjoaa äärimmäistä suorituskykyä todella vaativaan SEM-kuvantamiseen. Paras suorituskyky ei-magneettisille näytteille.

Resoluutio: 0,5nm@30keV (STEM), 0,6nm@15keV, 1,2nm@1keV

Lataa esite

AMBER FIB-SEM
Elektronimikroskooppi

  • CLARAan perustuva FIB
  • Gallium lähde
  • FIBin resoluutio: 2.5nm@30kV



Ionilähteenä on yleisimmin käytetty Gallium-lähde. Gallium-ionisuihkulla saavutetaan loistava tarkkuus ja hyvä työstönopeus.

Lataa esite

AMBER X FIB-SEM
Elektronimikroskooppi

  • CLARAan perustuva FIB
  • Xenon plasma -lähde
  • FIBin resoluutio:           <15nm@30kV (HR i-FIB+™), <25nm@30kV (i-FIB+™)


Gallium-ionisuihkuun verrattuna Xe-plasmalla saavutetaan huomattavasti suurempi työstönopeus, jolloin poikkileikkeiden tekeminen suuristakin kohteista onnistuu nopeasti. Työstövirta 1uA/2uA.

Lataa esite

SOLARIS FIB-SEM
Elektronimikroskooppi

  • MAGNAan perustuva FIB
  • Gallium-lähde
  • FIBin resoluutio: 2.5nm@30kV


Ionilähteenä on yleisimmin käytetty Gallium-lähde. Gallium-ionisuihkulla saavutetaan loistava tarkkuus ja hyvä työstönopeus.

Lataa esite

SOLARIS X FIB-SEM
Elektronimikroskooppi

  • MAGNAan perustuva FIB
  • Xenon plasma -lähde
  • FIBin resoluutio:        <15nm@30kV (HR i-FIB+™), <25nm@30kV (i-FIB+™)

Gallium-ionisuihkuun verrattuna Xe-plasmalla saavutetaan huomattavasti suurempi työstönopeus, jolloin poikkileikkeiden tekeminen suuristakin kohteista onnistuu nopeasti. Työstövirta 1uA/2uA.

Lataa esite
Soita 010 328 9980 ja kysy lisää Pyydä demo tai jätä yhteydenottopyyntö